根据外媒Techpowerup报导，日前ASML表示，根据目前的订单资讯和需求，预计2027年将交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻机。其中，英特尔和三星最近都提高了光刻机的订单量，英特尔将High-NA EUV的订购数量从1套提高到2套，EUV的订购数量从3套提高到5套，另外三星也将EUV的订购数量从原本的5套提高到7套。

值得注意的还有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV光刻机里占了20套的数量，同时也将High-NA EUV的订购数量从1套提高到2套。此外，传闻SK海力士计画在未来两年内安装好20套EUV光刻机，全部是为了HBM及先进存储解决方案所采购的。

虽然英特尔很可能是首个在量产过程中导入High-NA EUV曝光技术的半导体制造商。不过，三星和SK海力士正在迎头赶上。特别是SK海力士，以目前的产能扩张速度，预计将需要更多的厂房，以为准备安装光刻机留下足够的空间。