取消
搜索历史

    台积电CoWoS不再唯一?苹果、高通考虑采用英特尔先进封装技术

    来源:科技新报 2025-11-18 14:04产业资讯

    全球先进封装需求持续升温,市场对台积电CoWoS产能的依赖也推向高峰。近期外电报道,苹果与高通在新的职缺要求中,明确列出英特尔的EMIB与Foveros等封装技术经验,显示多家大厂正寻求CoWoS以外的替代方案,以应对AI与HPC芯片需求快速成长下的产能瓶颈。

    外媒指出,苹果正招聘DRAM封装工程师,要求熟悉CoWoS、EMIB、SoIC与PoP等先进封装技术,而高通数据中心事业部的产品管理主管职缺,也将Intel EMIB列为重要技能之一。

    分析认为,由于台积电CoWoS目前主要被英伟达、AMD与大型云端客户承包,新客户的排程弹性有限,使其他芯片大厂开始积极评估多元封装路线。同时,英特尔执行长暨高层此前也多次强调,Foveros与EMIB已取得多家客户的兴趣,并具备量产能力。

    根据英特尔先前对外说明,目前旗下具备代表性的先进封装分为两大方向:2.5D的EMIB(Embedded Multi-Die Interconnect Bridge),以及3D堆栈的Foveros。

    前者采用嵌入式硅桥,能让多颗芯片水平整合,不需大型硅中介层,是Intel Xeon Max与Data Center GPU Max系列采用的关键技术。后者则透过TSV与铜柱进行异质垂直堆栈,使顶层芯片不受基底芯片尺寸限制,适合移动处理器与客制化AI加速器,其中Meteor Lake、Arrow Lake与Lunar Lake均将采用此技术。

    业界普遍关注的台积电CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)则属于2.5D大型硅中介层封装,是目前支援最多颗HBM堆栈、也是AI GPU最主要采用的技术。与Intel的两项方案相比,CoWoS成熟度高、产能规模最大,并拥有广泛的HPC/GPU客户,因此仍是市场主流。

    简单来看,三大技术在设计与定位上各有不同:

    EMIB(Intel):2.5D小型硅桥,适合逻辑芯片与HBM的横向整合,成本较低、散热佳Foveros(Intel):3D垂直堆栈,可混合不同制程,具有高密度与省电特性。CoWoS(台积电):2.5D大型硅中介层平台,是AI GPU采用最多的主流方案,支援高阶HBM配置。

    市场人士指出,虽然CoWoS仍占据先进封装主导地位,但随着AI、数据中心与客制化芯片需求加速攀升,各大芯片公司都在寻找新的供应链组合。苹果与高通此次在职缺上明确点名Intel技术,被视为产业开始多元布局的信号,也意味着未来先进封装供应链将从单一依赖CoWoS,逐渐走向“双供应模式”。

    (文章为作者独立观点,不代表半导体新闻网立场,版权疑问请联系客服。)
    关于我们| 隐私条例| 版权申明| 联系我们

    2018-2022 Copyright© SemiNews.com.cn